专利名称：一种晶片腐蚀装置专利类型：实用新型专利发明人：秦涛,叶光奇,秦玉林申请号：CN201120197276.5申请日：20110613公开号：CN202159647U公开日：20120307
摘要：一种电子产品加工机械，特别是一种晶片腐蚀装置，包括并行排布的腐蚀液槽、清洗液清洗槽以及离子水清洗槽，其独到之处在于:在腐蚀液槽、清洗液清洗槽以及离子水清洗槽的上方具有一个由动力源驱动的偏心轮，该偏心轮的一端与动力源的输出端连接，另一端通过连杆与晶片收纳筐连接，所述的偏心轮固定在一由举升装置支撑的导轨上。本实用新型的优点在于:它全程无需人工直接操作，人工成本低，工作效率高。
申请人：湖北致源电子股份有限公司
地址：430071 湖北省武汉市洪山区关东科技园华光大道18号高科大厦
国籍：CN
代理机构：武汉天力专利事务所
代理人：冯卫平
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