韩克平;方景礼
【期刊名称】《电镀与涂饰》 【年(卷),期】1996(015)002
【摘 要】采用扫描电镜、光反射率法和电化学方法观测了黄铜在Ｈ２Ｏ２－Ｈ２ＳＯ４系化学抛光过程中的表面形貌、表面光亮度、电位时间曲线、电流时间曲线。结果表明，黄铜的化学抛光光包括浸蚀、光亮和过腐蚀三个阶段，同时对黄铜化学抛光机理也进行了探讨。 【总页数】5页(P11-15) 【作 者】韩克平;方景礼 【作者单位】不详;不详 【正文语种】中 文 【中图分类】TQ153.5 【相关文献】
1.H2O2-Fe2+/TiO2-H2SO4体系处理废有机溶剂的研究 [J], 阮志华
2.H2O2-Fe2(SO4)3-H2SO4体系中辉铜矿的浸取研究 [J], 王百年;左权;陈洋;王艳成;杨保俊
3.H2O2/H2SO4改性玉米秸秆活性炭对甲醛吸附性能的研究 [J], 刘耀源;邹长武;侯天瑶;石磊;李晓芬;王婷;张萍
4.光反射率和重量法研究黄铜的化学抛光 [J], 方景礼;韩克平 5.黄铜H2SO4—HNO3系化学抛光机理研究 [J], 韩克平;方景礼
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