专利名称：一种光学邻近修正方法专利类型：发明专利发明人：张飞
申请号：CN201010022522.3申请日：20100104公开号：CN102117010A公开日：20110706
摘要：一种光学邻近修正方法，该方法包括，首先，建立工艺错误敏感图形数据库，确定其对应修正方案；然后对比电路图形和工艺错误敏感图形数据库，在电路图形中标记工艺错误敏感图形；接着，根据所述工艺错误敏感图形对应修正方案，修正所述电路图形中工艺错误敏感图；最后对修正后的电路图形进行光学邻近修正。本发明在对电路图形进行光学邻近修正前，加入检查和修正电路图形中工艺错误敏感图形的步骤，可以减少光学邻近修正所需的时间，使修正后的光罩图案符合电路图形设计要求。
申请人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
地址：201203 上海市浦东新区张江路18号
国籍：CN
代理机构：北京德琦知识产权代理有限公司
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