镀膜产品的不良，部分是镀膜工序的本人形成的，部分是前工程遗留的不良，镀膜终极的品质是全部光学零件加工的（特别是抛光、清洗）的综合反映，对策镀膜不良时必须综合考虑，才干真正找到不良发生的缘由，对策改善才干取得成效. 一、膜强度
膜强度是镜片镀膜的一项次要目标，也是镀膜工序最罕见的不良项.
膜强度的不良（膜弱）次要表示为：
① 擦拭或用公用胶带拉撕，发生成片零落； ② 擦拭或用公用胶带拉撕，发生点状零落；
③ 水煮15分钟后用公用胶带拉撕发生点状或片状零落； ④ 用公用橡皮头、1Kg力摩擦40次，有道子发生； ⑤ 膜层擦拭或未擦拭出现龟裂纹、网状细道子.
改善思路：基片与膜层的结合是首要考虑的，其次是膜概况硬度光滑度和膜应力. 膜强度不良的发生缘由及对策： ① 基片与膜层的结合.
普通情况，在减反膜中，这是膜弱的次要缘由.因为基片概况在光学冷加工及清洗过程中不成防止地会有一些无害
杂质附着在概况上，而基片的概况因为光学冷加工的感化，总有一些破坏层，深入在破坏层的杂质（如水汽、油汽、清洗液、擦拭液、抛光粉等，其中水汽为次要），很难以用普通的方法去除干净，特别对于亲水性好，吸附力强的基片特别如此.当膜料分子堆积在这些杂质上时，就影响了膜层的附着，也就影响了膜强度.
此外，如果基片的亲水性差、吸附力差，对膜层的吸附也差，同样会影响膜强度.
硝材化学波动性差，基片在前加工过程中流转过程中，概况曾经受到腐蚀，构成了腐蚀层或水解层（或许是局部的、极薄的）.膜层镀在腐蚀层或水解层上其吸附就差，膜牢固度不良.
基片概况有脏污、油斑、灰点、口水点等，局部膜层附着不良，形成局部膜牢固度不良.
改善对策：
㈠ 加强去油去污处理，如果是超声波清洗，应重点考虑去油功能，并包管去油溶液的无效性；如若是手擦，可考虑先用碳酸钙粉擦拭后再清擦.
㈡ 加强镀前烘烤，条件答应，基片温度能达到300℃以上更好，恒温20分钟以上，尽可能使基片概况的水汽、油汽挥发.*留意：温度较高，基片吸附能力加大，也容易吸附灰尘.所以，真空室的洁净度要提高.否则基
片在镀前就有灰尘附着，除发生其它不良外，对膜强度也有影响.（真空中基片上水汽的化学解吸温度在260℃以上）.但不是所有的零件都须要高温烘烤，有的硝材温度高了反而膜强度不高还会有色斑发生.这与应力和材料热匹配有较大的关系.
㈢ 有条件时，机组安装冷凝机（PLOYCOLD），除提高机组真空抽速外，还可以帮忙基片水汽、油气去除. ㈣ 提高蒸镀真空度，对于1米以上的镀膜机，蒸镀启动真空应高于3*103Pa，镀膜机越大，蒸镀启动真空更高.
㈤ 有条件时，机组安装离子源，镀前轰击，清洁基片概况，镀膜过程辅助，有益于膜层的密实牢固. ㈥ 膜料的去潮，将待用膜料用培养皿盛放在真空室干燥.
㈦ 坚持工作环境的干燥（包含镜片擦拭、上伞工作区），清洁工作环境时不克不及带入过多的水汽. ㈧ 对于多层膜，在膜系设计时，就要考虑第一层膜与基片的匹配，尽可能考虑用Al2O3膜料，该膜料对大部分基片有较好的吸附力.对于金属膜，也可考虑第一层镀Cr或Cr合金.Cr或Cr合金对基片也有较好的吸附力.
㈨ 采纳研磨液（抛光液）复新去除镜片概况的腐蚀层（水解层）
㈩ 有时候适当降低蒸发速率对膜强度的提高有帮忙，对提高膜概况的光滑度有积极意义. ② 膜层应力：
薄膜的成膜过程，是一个物资外形的改变过程，不成防止地在成膜后的膜层中会有应力存在，对于多层膜来说有分歧膜料的组合，各膜层体现出的应力是有所分歧的，有的是张应力、有的是压应力，还有膜层及基片的热应力.
应力的存在对膜强度是无害的，轻者是膜层耐不住摩擦，重者，形成膜层的龟裂或网状细道子.
对于减反膜，因为层数不多，应力普通体现不明显，（但有些硝材的镜片即即是减反膜也有应力成绩存在.）而层数较多的高反膜、滤光膜，应力是一个罕见的不良身分，应特别留意. 改善对策：
㈠ 镀后烘烤，最初一层膜镀完后，烘烤不要马上停止，延续 10分钟“回火”.让膜层结构趋于波动. ㈠ 降温时间适当耽误，退火时效.减少因为真空室内外温差过大带来的热应力.
㈡ 对高反膜、滤光膜等在蒸镀过程中，基片温度不宜过高，高温易发生热应力.而且对氧化钛、氧化钽等膜料的光学波动性有负面感化. ㈢ 镀膜过程离子辅助，减少应力.
㈣ 选择合适的膜系匹配，第一层膜料与基片的匹配.（如五层减反膜采取
Al2O3ZrO2Al2O3Al2O3ZrO2MgF2；ZrO2也能够采取SV5（一种ZrO2 TiO2混和膜料）或其他混合高折射率膜料..
㈤ 适当减小蒸发速率
（Al2O32.5A/S;ZrO23A/S;MgF26A/S参考速率） ㈥ 对氧化物膜料全部充氧反应镀，根据分歧膜料控制氧进气量.
③ 外层膜概况硬度：
减反膜普通外层选用MgF2，该膜层剖面是较松散的柱状结构，概况硬度不高，容易擦拭出道子.
改善对策：
㈠ 膜系设计答应时，外层加10nm摆布的SiO2层，二氧化硅的概况光滑度优于氟化镁（但二氧化硅概况耐磨度、硬度不如氟化镁）.镀后离子轰击几分钟，牢固度后果会更好.（但概况会变粗）
㈡ 镜片出真空室后，放置在较干燥洁净的地方，防治快速吸潮， 概况硬度降低. ④ 其它
形成膜强度不良的缘由还有，真空度过低（在手动控制的机台容易发生）、真空室脏、基片加热不到位.
辅助气体充入时，膜料也在放气导致真空度降低，使分子自在程减少，膜层不牢.所以辅助气体的充入要考虑膜料的放气，镀前对膜料充分预熔充分放气，也能够防止因为蒸镀中膜料放气形成真空度过度降低，从而影响膜强度. ⑤ 脱膜
这里的脱膜虽然也是膜弱的一种，但与前述的脱膜有一些区别，次要特征为：点状脱膜、边沿脱膜、局部脱膜. 次要缘由使膜内有脏或净化物所形成的. 改善方法：提高基片的洁净度. 二、膜料点
膜料点不良也是镀膜产品的一个罕见成绩，在日企、台企把膜料点称为“斑孔”
顾名思义，膜料点就是蒸镀中，大颗粒膜料点随着膜料蒸汽分子一路蒸镀到了基片的概况，在基片概况构成点状的突起，有时是个别点，严重时是成片的细点，大颗粒点甚至可以打伤基片概况.
各种膜料的蒸发特性是纷歧样的，特别是熔点温度和蒸发温度有很大差别 熔点温度大于蒸发温度的材料，由固态直接气化蒸发，是升华材料； 熔点温度小于蒸发温度的材料，由固态先化成液态尔后在转换成气态蒸发，是非升华材料； 熔点温度与蒸发温度相当的材料，由固态到气态蒸发，边融化边蒸发.是半升华材料. 其中非升华材料最容易发生膜料点，因为液态的膜料继续加热会沸腾，沸腾中膜料中的气泡溢出，飞溅膜料点的可能性加大.有时在材料预熔时就有很大的飞溅. 膜料受潮，预熔或蒸镀时水汽逸出，也会形成飞溅发生. 下表是几种经常使用膜料的升华特性 材料名称 ZnS SiO2 Al2O3 ZrO2 TiO2 Ta2O5 MgF2 熔点温度 1900 1700 蒸发温度 1100 1600 2100 2700 2000 2100 1540 飞溅可能 极小 很小 小 小 大 较大 大 备注 2715 1850 1800 1266 膜料不纯、膜料参杂，即膜料中有了熔点温度、蒸发温度纷歧致的材料，这也是膜料点发生的缘由. 改善思路：选用好的膜料、充分预溶、控制速率. 改善对策：
㈠ 选择杂质少的膜料
㈡ 对易飞溅的膜料选择颗粒合适的膜料 ㈢ 膜料在镀前用网筛筛一下
㈣ 精心预熔，MgF2务必熔透一次蒸镀所需膜料，而Ta2O5 和TiO2必须完整熔透.
㈤ 用一把电子枪镀制几种膜料时，防治坩埚动弹中膜料参杂及挡板掉下 膜料渣形成膜料净化.一旦发现坩埚膜料有净化，应立即更换.
㈥ 尽最大可能使蒸发舟、坩埚干净.（勤打扫）. ㈦ 选择合适的蒸发速率及速率曲线的平滑.特别是非升华材料，蒸发速率不宜高.
㈧ 膜料去潮，将待用膜料用培养皿盛放在真空室干燥
留意：有时膜层内有一些粗大的点子，有可能不是膜料点，而是灰尘点，处理的方法与膜料点不良是分歧的，应严酷区分，分别处理.
三、膜色差别
膜色差别有二种（不包含色斑），一种是整罩上、中、下膜色纷歧致，即分光测试曲线有差别；二是单片膜色纷歧致.
1．上中下膜色纷歧致称为整伞（罩）均匀性欠好，也称有伞差.次要发生缘由是均匀性批改板（补正板）有成绩.
2．伞片变形.也是膜色不匀的缘由之一，特别是使用了较久的伞片，以往是均匀的，慢慢变得不均匀了，伞片变形就可能是次要缘由了.
3．膜料情况的纷歧致，特别是升华和半升华膜料被打偏，挖坑等也会严重影响整罩和单片的均匀性.特别是有大量手工预熔时，各人的操纵手法纷歧，得到的料况也会纷歧.
改善思路：充分采取批改板的功能. 改善对策：
㈠ 调整批改板，尽量考虑高低折射率膜料的平衡兼容，如果有二个蒸发源，可能的条件下，独立使用各自的批改板，防止干扰.
㈡ 条件答应，采取行星夹具.
㈢ 伞片整形，对伞片整形可以先加工一个R基模（选择强度较高的原材料），在基模上对伞片整形.为防止减少伞片变形，在伞片订购时对伞片的厚度、原材料选摘要合适.
㈣ 加强伞片管理，特别是摆放时的管理，防止因摆放不当而变形.
㈤ 改善膜料情况，特别是电子枪蒸镀升华、半升华材料时，不克不及把膜料打塌，挖坑.
㈥ 能够主动预熔的膜料，尽量主动预熔，减少人为身分影响.
▲ 批改板对物理膜厚的批改很无效，但对折射率的批改是力不从心的，所以完整靠批改板解决分光均匀性，是很困难的.
▲ 如果一个批改板要对应二把电子枪（蒸发源）、和多种膜料，就会有较大的困难. 对于单片膜色不均匀发生的缘由：
主如果因为基片凹凸严重，与伞片曲率差别较大，基片上部、或下部法线与蒸发源构成的蒸发角差别较大.形成一片镜片上各部位接受膜料的条件差别大，构成的膜厚差别大.
另外镜片被镜圈（碟片）边沿部遮挡、镜圈（碟片）脏在蒸镀时净化镜片等等也会形成膜色差别成绩. 改善思路：改善镜片边沿的蒸发角. 改善对策：
㈠ 条件答应，用行星夹具； ㈡ 选用伞片平坦（R大）的机台；
㈢ 根据伞片孔位分布，基片外形，建造专门的锯齿形批改板.
㈣ 如果有可能，把蒸发源往真空室两头挪动，也可改善单片的膜色均匀性.
㈤ 改善镜圈（碟片），防止遮挡.
㈥ 留意扭转伞架的响应部位对边沿镜片的部分遮挡 ㈦ 清洁镜圈（碟片） ㈧ 改善膜料蒸发情况. 四、膜脏（也称白压克）
顾名思义，膜层有脏.普通的膜脏发生在膜内或膜外.脏可以包含：灰尘点、白雾、油斑、指纹印、口水点等.（灰尘点和白雾单列）
改善思路：检讨过程，杜绝脏净化. 改善对策：
㈠ 送交洗净或擦拭的镜片不要有过多的不良附着物； ㈡ 加强镀前镜片的洗净率或擦净率；
㈢ 改善上伞后待镀镜片的摆放环境，防治净化；
㈣ 养成上伞功课员的良好习气，防治镜片净化（指纹印、口水点及其它）； ㈦ 加快真空室护板更换周期；
㈧ 充气管道清洁，防治气体充入时净化； ㈨ 初始排气防涡流（湍流），初始充气防过冲；
㈩ 镜片摆放环境和搬运过程中防止油污、水汽（磨边、超声波清洗）净化.
11 工作环境改形成洁净车间
12 将镀膜机功课面板和主机隔开，减少主机发生的无害物资净化镜片. 四/1、灰点脏
景象：镜片膜层概况或内部有一些点子（不是膜料点）有些可以擦除，有的不克不及擦除.而且会有点状脱膜发生. 发生缘由：
1、真空室脏，在开始抽真空时的空气涡流将真空室底板、护板的脏灰带到镜片上，构成灰点层.（膜内，不克不及擦除，会有点状脱膜）
2、镜圈或碟片脏，有浮点灰尘，在离子束感化下附着到了镜片上构成灰点层.（膜内，不克不及擦除，会有点状脱膜）
3、镜片上伞时就有灰尘点，上伞时没有检查挑选.（膜内，不克不及擦除，会有点状脱膜）
4、镀制完成后的环境净化是膜外灰点的次要成因，特别是当镜片热的时候，更容易吸附灰尘，而且难以擦除.（膜外）
1、 真空室充气口环境脏、开始充气量过大、充气过滤器脏，充气时镜片温度过高也是形成镜片膜外灰尘点不良的缘由.（膜外）
2、 功课员人为带来的灰尘净化（膜内膜外） 3、 工作环境中灰尘过多
改善思路：杜绝灰尘源 改善对策：
1． 工作环境改造洁净车间，严酷按洁净车间规范实施.
2． 尽可能做好环境卫生.尽量利用洁净工作台. 3． 真空室周期打扫，坚持清洁. 四/2、膜外白雾
景象：镀膜完成后，概况有一些淡淡的白雾，用丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的景象.用氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（又称：可擦拭压克）
分析：膜外白雾的成因较为复杂，可能的成因有：
① 膜结构成绩：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； ② 蒸发角过大，膜结构粗糙. ③ 温差：镜片出罩时内外温差过大 ④ 潮气；镜片出罩后摆放环境的潮气 ⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时水汽过重 ⑥ 蒸镀中充氧不完整，膜结构不均匀 ⑦ 膜与膜之间的应力
改善思路：膜外白雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药.次要思路，一是把膜做的致密光滑些不容易吸附，二是改善环境减少吸附的对象. 改善对策：
㈠ 改善膜系，外层加二氧化硅，使膜概况光滑，不容易吸附.改善镜片出罩时的环境（干燥、清洁） ㈡ 降低出罩时的镜片温度（耽误在真空室的冷却时间）减少温差、降低应力. ㈢ 改善充氧（加大），改善膜结构. ㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 ㈤ 离子辅助镀膜，改善膜结构
㈥ 加上polycold解冻时的小充气阀（其功能是及时带走水汽）
㈦ 从蒸发源和夹具上设法子改善蒸发角. ㈧ 改善基片概况粗糙度.
㈨ 留意polycold解冻时的真空度. 四/3、膜内白雾
白雾构成在膜内，没法用擦拭方法祛除. 可能的成因：
① 基片脏，附着前工程的残留物 ② 镜片概况腐蚀净化
③ 膜料与膜料之间、膜料与基片之间的匹配. ④ 氧化物充氧不敷.
⑤ 第一层氧化锆膜料，可能对某些基片发生白晕景象 ⑥ 基片进罩前（洗净后）受潮气净化 ⑦ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹
⑧ 真空室脏、水气过重 ⑨ 环境湿度大
改善思路：基片本人的成绩可能是次要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本人最大的可能是膜料匹配成绩. 改善对策：
㈠改进膜系，第一层不必氧化锆.
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜筹办工作.
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤一下，更换的护板等真空室部件必须干燥、干净. ㈣改善环境
㈤妥当呵护进罩前在伞片上的镜片，免受净化. ㈥改善洗净、擦拭后果.
㈦改善膜匹配（考虑第一层用Al2O3） ㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低）
㈨加快前工程的流程.前工程对已加工光面的呵护加强. ㈩抛光加工完成的光面，必须立即清洁干净，不克不及有抛光粉或其他杂质附着干结. 五、色斑
色斑（也称膜色压克、烧蚀）是指镜片上的膜色局部变异（普通不规则）.有膜内色斑（含膜层色斑）和膜外色斑二种.
有时会出现规则的局部区域（如凹镜片的中间或环状区域等）膜色变异.
色斑发生的缘由：
局部折射率变异：所谓膜色是薄膜光谱特性的反映，薄膜光谱分光特性的设计和达成是建立在必定折射率基片的基础上，如果基片局部折射率改变，那么所镀的膜层在局部的光谱分光特性也有变更.局部点的膜色就会有变异，构成膜内色斑的.
镀膜中和镀膜后因为各种缘由，使得膜层的局部折射率变异，构成膜层或膜外色斑.
膜外色斑普通较浅，可以用抛光粉或碳酸钙分擦掉，如果是两头层或底层膜层局部折射率变异的膜层色斑，就不克不及用抛光粉或碳酸钙粉擦拭去掉了.
分辨膜内膜层和膜外色斑的一个无效手段是用抛光粉或碳酸钙粉擦拭.
膜内、膜层、膜外色斑的处理对策是分歧的. 膜内色斑发生来源：
基片上局部折射率改变大都是因为基片局部被腐蚀形成的.腐蚀层普通构成一层极薄的低折射率层.
1． 前道加工过程中工装夹具、加工方法带来的.
这个局部可能大，也可能小，还可能大部，由此可能会有大小不等的色斑.这类色斑有一个特征，色斑的外形规则、部位分歧、界线分明. 2． 周转、运输、库存发生.
有些基底本人的化学特性较差，如HZK9，耐潮、耐酸功能很弱，在前加工过程中不成防止的会与水接触，会与湿润空气接触，构成腐蚀，如果前加工与镀膜的周期长（超出5小时）就容易发生膜内色斑，如果是反射膜、红外截至膜，这类色斑就会非常明显，还有可能刚镀完是良品，若干天后还会有色斑显出而成为不良品. 3． 研磨抛光工程在镜片概况竣工后没有及时将概况处理干净，残留的抛光粉、液等干结在镜片概况，对镜片发生腐蚀或净化.这类腐蚀或净化不克不及用洗净或擦拭的方法祛除，镀膜后浮现的就是色斑.
4． 研磨抛光所用抛光液的PH值匹配没有受控，影响镜片在研磨加工到镀膜加工之间的化学波动. 膜层和膜外色斑发生来源
1．镀膜后，膜层的空隙中渗透了难以清除的杂质，改变了局部膜层的折射率，从而膜外构成色斑.
2．镀膜过程中，有些高折射率基片的温度过高，形成局部膜层（也有可能是膜层和基片的结合部）折射率变异.也会形成膜层色斑发生.
3．膜系匹配中，有的膜层太薄，结晶处于不波动形态，也可能发生膜层色斑.
4．膜系的膜料选择与基片材料的匹配欠好，也是膜层色般的发生缘由之一.
5．机组的微量返油，在镜片或膜层中构成局部的极薄的油斑，也是膜层色斑的发生缘由，此类色斑处的膜强度普通较差些.
膜内色斑改善对策：
一、 加快研磨（抛光）到镀膜的周期，减少镜片被净化腐蚀的几率，留意：是镜片的全部抛光面.
二、 抛光加工中，留意对另一已抛好光的面呵护
三、 留意抛光加工中的工装、夹具、加工方法，以避免形成对镜片概况局部腐蚀伤害.
四、 抛光加工完成的光面，必须立即清洁干净，不克不及有抛光粉或其他杂质附着干结. 五、 控制研磨抛光液的PH值.
六、 镀膜前，用抛光粉（氧化铈、氧化铁）或碳酸钙粉（用甘油或水调和）对镜片抛光面复新.并尽快清洁干净.
七、 加强镀前的离子轰击
八、 对于可见光区减反膜，在满足技术请求的前提下设计建造成单峰形，反射色呈淡绿色，袒护色斑
九、 对于化学功能较好的镜片，在清洗前先用退膜液或稀酸液浸泡去除腐蚀斑.
十、 选择合适的膜层匹配对色斑改善也有帮忙.
十一、 提高基片镀制时的温度，加快水汽的完整挥发.（但可能会有 膜层色斑发生，要根据具体情况分析对策.）
十二、 第一层镀上Al2O3膜层普通会有好的改善后果.
膜层、膜外色斑改善对策：
一、 对减反膜，设计条件答应时，外层加以SiO2层，10nm摆布即可（普通的外层膜是MgF2）.使外层趋于光滑、致密，减少无害物资的侵蚀.（如果镀后离子轰击SiO2层会粗糙.）
二、 适当降低蒸镀速率（在必定范围内）提高膜层光滑度，减少吸附.
三、 镜片在出罩后，待冷却后再下伞和擦拭.
四、 镜片在出罩后，放置在洁净干燥的场合待冷却.减少净化可能.
五、 用碳酸钙粉，轻擦去除外层附着物. 六、 改善工作环境的湿度、温差.
七、 改善充气口附近的环境，使充入的大气干燥、洁净. 八、 工作人员的个人卫生（口罩、服装、手套、指套等）改善.
九、 检讨真空室返油情况，防止返油.
十、 适当降低基片温度；（不克不及影响膜强度）
十一、 改善膜系，取消太薄的膜层，根据硝材特性，选择合适的膜层材料. 六、光谱特性
光学薄膜产品中，光谱特性不良（分光不良）是一个罕见成绩，光谱特性不良是指分光反射（透射）曲线不满足零件产品技术请求，是功能性的不良，生产建造中必须严酷监控.
形成光谱特性不良发生的缘由有很多，次要的有： 1. 膜系设计：设计时的膜厚、折射率允差太小，试制时的分光曲线在技 术请求的边沿，建造中稍有偏差就导致分光不良.
2. 设计的膜料折射率与实际的折射率有差别，或发生了变异.
3. 实镀的中间波长（膜厚）与但愿达到的中间波长（膜厚）有差别，或发生了变异.（tooling值（也有叫F值）有偏差）
4. 建造中出了错误：如膜料用错、程序用错、预熔时没关挡板等
5. 工艺条件改变：真空度、充氧量、加热温度、蒸发速率、基片扭转速度、离子辅助条件等.
6. 材料变动，如分歧厂家生产的同种光学材料（基片材料和膜料）在光学功能化学功能有所分歧（有时同厂家分歧生产批次也有分歧），生产过程中（特别是大批量生产）材料突然变动（未作论证），就可能形成分光不良.
7. 用于测试分光的比较片概况特性变异，形成分光测试不良（或许镜片的分光是OK的，可以比较二者的反射膜色）.这或许是容易忽视的一个成绩，又是一个罕见的成绩，特别是高折射率的测试比较片概况构成一层腐蚀层，相当于有了一层减反膜（很薄），膜层不是堆积在基片上，而是堆积在腐蚀层上，因而比较片上的分光就会禁绝确、不波动.常常比较片加工存放的时间弘远于基片，存放的环境不如镜片，成绩就会更严重.
8. 机组工艺波动性差.（抽速不温、机组震撼大、测试片或晶片抖动、扭转不温、伞片变形、温度测量误差大、加热功率不稳等等）
9. 如果使用晶振控制膜厚的，晶振片的品质、晶振片的使用寿命、活性值的变更.同一片晶振片，开始使用的敏感度与使用了一段时间（如6层减反膜镀了3罩）敏感度有一些差别，也会带来全体曲线的偏移.
10. 晶控探头的水冷差，形成晶控不波动、不成靠，膜厚控制禁绝确.
11. 刚镀制完成的测试与放置一段时间后的测试，分光特性会有差别.
12. 有些膜料的折射率在成膜后还会有变更（与成膜条件、膜层匹配有关），会形成光谱特性的变更. 13. 镜片折射率变异，有些基片材料，在经过超声波清洗后概况构成一极薄的低折射率层，对分光特性、膜色也有影响
14. 采取光控时（非主动控制），光量值设置的分歧适，或因为膜料折射率变更使得设置的光量值有了偏差，带来分光特性的偏差或不波动.
15. 光控中的监控片本人有了腐蚀层，影响了光控的走值.
16. 光控中的光旌旗灯号不波动（电压动摇、接触不良、电子元器件成绩等）影响精度和波动性. 17. 光控中，有的膜层比较薄（特别是第一层比较薄时）不到一个峰值，带来光控的禁绝确性. 18. 非主动控制的光控，人为判断时误差. 改善对策： 一、 设计膜系：
●膜系设计当选用膜料的折射率应与使用膜料使用机台吻合；
●膜系设计尽量考虑厚度与折射率允差（各层的厚度及折射率答应偏差1%2%），特别是敏感层，要有必定的允差（1%）
●控制厚度与实际测试厚度的“tooling”值，要精确，并经常确认调整.
●设计的技术请求必须高于图纸提出的技术请求. ●设计时考虑基片变异层折射率变更带来的影响. ●设计时考虑膜料的折射率变更及膜料之间、膜料与基片之间的匹配.
二、 工作现场合用膜料、芯片、硝材生产厂家、型号一旦确认不要经常变动，必须变动的应当多次确认. 三、 杜绝、防止功课过失的发生，
四、 加强每罩镜片的分光测试监控，设置警戒分光曲线，及时调整膜系.
五、 测试比较片管理加强，确保进罩镀膜的测试比较片概况无净化、新颖、外观达到规定请求.在使用前，对比较片作一次测试，测定其反射率（仅测一个波长点就可以）测定值与理论之比较，普通测定值小于理论值（腐蚀层影响），如果二值之间差别较大（比方大于1%）就应当考虑对比较片再复新、或更换. 六、 镜片的分光测试要在基片完整冷却后进行.
七、 把握晶控片敏感度变更规律，及时批改控制数据.晶控片在新的时候与使用了若干罩后的敏感度是不完整一样的，芯片的声阻抗值会有巨大变更.有些晶控仪（如IC5）可以设置主动批改，而大部分晶控仪没有主动批改声阻抗值的功能.把握了晶片敏感度的规律，可以在膜厚设置上矫正.
八、 改善晶控探头的冷却后果，晶片在温度大于50℃时，测量误差较大.
九、 采取离子辅助镀膜的工艺，可以提高成膜分光特性的波动性.
十、 检讨该膜系在该机台的光控适用性. 十一、 检讨光控中的人为影响
十二、 经常检查光控的光路、旌旗灯号、测试片等. 十三、 设计适用于光控的膜系. 七、光谱分光不良的解救（补色）
分光不良分为二种情况：一是全部膜系镀制完成后，经测试分光不良，此类不良次要按六节所述方法处理，普通减反膜难以解救.但对于高反膜、带通滤光膜等可以通过加层的方法解救.二是镀制半途间断（包含发现错误间断）形成的分光不良，普通都可以通过后续努力解救.后续方法精确，解救的成功率比较高. 间断的缘由方式纷歧：
①停电， ②机器故障
③人为间断（发现错误、疑问后间断） 中段后信息：
㈠ 晓得镀到第几层，已镀各层的膜厚；
㈡ 晓得镀到第几层，最初一层膜的膜厚不确定； ㈢ 不晓得镀了多少. 解救处理：
1． 对于第㈠种情况，比较好处理，只需确认前面镀的没错，程序没有效错，就可以继续本来的程序，要留意的是：如果某一层镀了一部分继续镀下去时，交接处要减少一些膜厚（根据膜料、蒸发速率决定减少多少，普通是0.21nm摆布），如果该层剩下的膜厚已缺乏1520秒蒸镀时，要考虑降低蒸发速率或干脆不镀，通过后续层调整膜厚解决.
2． 对于第㈡㈢种情况的处理比较复杂一些，
模拟：根据曾经实镀的镜片（测试比较片）实测分光数据输入计算机膜系设计程序的优化目标值，再根据曾经把握的膜系信息输入，采取倒推法逐层优化，模拟出实际镀制的膜系数据.
*测试比较片片是指随镜片一路镀制（在伞片上、与镜片同折射率），用于测试镀后分光曲线的平片.
优化：再锁定通过模拟得到的膜系数据，通过后续层膜厚优化找到实现目标的最好方案.
试镀：根据新优化的后续膜层数据，试镀若干镜片（12片）或测试片，确认补色膜系的可行性.
补色镀：对试镀情况确认后实施补色镀.补色镀前，确认基片是否洁净，防止发生其它不良.
3、其它情况处理：
对于用错程序，错误操纵（预熔未关闭挡板等）人为间断须要解救的；和反光膜、滤光膜镀后须要解救的情况处理方案：
● 模拟：将实测分光数据输入计算机膜系设计程序的优化目标值.通过计算机模拟（普通是最初一层的膜厚确认），找到与实现测试值结果响应的膜系数据.
● 优化：根据模拟得到的膜系数据，输入产品请求的优化目标值，通过加层、优化后续膜层的方法，从头优化设计一个解救膜系.
● 试镀：确认、完美解救膜系后果. ● 解救镀：完成解救工作. 八、破边、炸裂不良
普通的镀膜会对基片加热，因为基片是装架在金属（铝、铜、不锈钢）圈、碟内，因为镜圈或碟片与镜片
（基片）的热膨胀系数纷歧致，冷却过程中会形成镜片的破边或炸裂.
有些大镜片，因为出罩时的温度较高，与室温的温差较大，镜片的热应力感化形成镜片炸裂或破边.
有些零件边沿倒边的外形容易形成卡圈而破边. 改善对策：
① 夹具（镜圈、碟片）的设计，在尺寸配合上要合理，充分考虑建造误差带来的影响.
② 留意镜圈、碟片的变形，曾经变形的夹具不克不及使用
③ 选用合适的夹具材料（非导磁材料、不生锈、耐高温不变形），不锈钢较为理想（热变形系数小），就是加工难度大，价格贵.
④ 对于大镜片应降低出罩时的温度，减少温差，防止炸裂.
⑤ 如果是镜圈，可以考虑在镜圈上开槽，作为缓冲.（镜圈的使用寿命会减少很多） 九、划痕（膜伤）
划痕是指膜面内外有道子，膜内的称划痕，膜外的称膜伤.这也是镀膜品质改善中的一个顽症，虽然很清楚发生的缘由和改善方法，但难以根治.
发生缘由：
膜内的划痕：
① 前工程外观不良残留，有些划痕在镀膜前不容易发现，前工程检验和镀前上伞检查都不容易发现，而在镀膜后会将划痕浮现.
② 各操纵过程中的功课过失形成镜片划痕
③ 镜片摆放太密，搬运过程中形成互相磕碰构成划痕 ④ 镜片的摆放器具、包装材料形成镜片概况擦伤 ⑤ 超声波清洗形成的伤痕
膜内伤痕（膜伤）
① 镜片的摆放器具、包装材料形成的膜伤. ② 镀后超声波清洗形成的膜伤. ③ 各功课过程功课过失形成的膜伤.
改善思路：检讨个功课过程和相干器具材料，清除划痕和膜伤.
改善对策：
㈠强化功课员功课规范.
㈡订立功课过失清单，监督功课员防止功课过失. ㈢改善镜片摆放间隔 ㈣改善镜片搬运方法
㈤改善摆放器具、包装材料. ㈥改善超声波清洗工艺参数 ㈦加强前工程检验和镀前检查.
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