专利名称：一种干式安装磁铁的磁控溅射靶源专利类型：实用新型专利发明人：邵玮,汤俊杰
申请号：CN201920116374.8申请日：20190123公开号：CN209537615U公开日：20191025
摘要：本实用新型公开了一种干式安装磁铁的磁控溅射靶源，包括靶座和磁铁座，所述靶座的下方设置有磁铁盖，且磁铁盖的下方设置有强磁一，所述强磁一的左侧设置有强磁二，且强磁二的左侧安装有强磁三，所述强磁一的下方安装有磁频座，且磁频座的下方设置有橡胶密封圈一，所述磁铁座安装于橡胶密封圈一的下方，且磁铁座的右下方安装有橡胶密封圈二，所述磁铁座的下方连接有橡胶密封圈三，且橡胶密封圈三的左侧设置有水流通道。该干式安装磁铁的磁控溅射靶源的主要特点是在可能接触冷却水的整个循环水路中，所有工件缝隙中均采用了橡胶密封圈进行密封，杜绝了冷却水腐蚀任何工件堵塞循环水路的可能，大大延长了磁控溅射源的使用寿命。
申请人：南通纳瑞纳米科技有限公司
地址：226300 江苏省南通市高新区杏园路299号
国籍：CN
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