专利名称：真空蚀刻装置专利类型：实用新型专利发明人：谢南海,杨小东,李延奇申请号：CN201821629755.8申请日：20181009公开号：CN208980797U公开日：20190614
摘要：本实用新型涉及一种真空蚀刻装置的改进。其结构包括机体，机体上设有输送轮组、喷淋结构，其特征在于：所述输送轮组包括相互对应上轮组和下轮组，在上轮组上方设有真空吸管，所述真空吸管通过支撑块连接于上轮组上方，真空吸管通过连接管与真空吸管工作泵浦连接。其优势在于：1、所述的上轮组与下轮组均采用耐酸碱材料制成，增加使用寿命。2.真空吸管通过支撑块连接于上轮组上方，与待生产板的接触面大大减少，高度保护待生产板表面并预防了待生产板运动轨迹偏移的隐患。3.真空吸管底面两边设有小孔，中间设有长条孔，而真空吸管在负压状态下充分抽取待加工板表面的蚀刻液，均匀待加工板板边与板中间部位的蚀刻速率，从而阻止“水池效应”的发生。
申请人：广东达源设备科技有限公司
地址：523419 广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区研发一路1号A栋4楼B区
国籍：CN
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