化学机械抛光方法和装置[发明专利]

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专利名称：化学机械抛光方法和装置专利类型：发明专利

发明人：曹阳,王同庆,李昆,路新春申请号：CN201610824467.7申请日：20160914公开号：CN106312696A公开日：20170111

摘要：本发明公开了一种化学机械抛光方法和装置，所述化学机械抛光方法，包括如下步骤：抛光，供应抛光液，抛光头夹持微晶玻璃并以第一预定压力P1将微晶玻璃止抵于抛光垫上；修整，供应清洗液，修整单元以第二预定压力P2止抵所述抛光垫；其中所述步骤抛光和所述步骤修整交替进行，且在微晶玻璃的抛光周期内，至少包括两次修整。本发明的化学机械抛光方法，通过将整个抛光周期分隔为多个抛光步骤，在相邻的抛光步骤中对抛光垫进行修整，能够有效减少微晶玻璃样品的表面缺陷，降低其表面粗糙度，且能够使微晶玻璃在抛光过程中保持稳定的抛光率，提高产品良率，便于工业化应用。下面描述根据本发明实施例的化学机械抛光方法。

申请人：天津华海清科机电科技有限公司,清华大学

地址：300350 天津市津南区海河科技园区聚兴道9号,8号楼

国籍：CN

代理机构：北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：黄德海

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