连续真空镀膜装置[实用新型专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：连续真空镀膜装置专利类型：实用新型专利发明人：史旭

申请号：CN201220026578.0申请日：20120120公开号：CN202482431U公开日：20121010

摘要：本实用新型公开一种连续真空镀膜装置，该装置由若干个镀膜腔体串接节联构成，每个镀膜腔体配置有离子束清洗源、和/或过滤阴极真空镀膜膜源、和/或磁控溅射源和分子真空泵，镀膜腔体之间用插板阀关闭密封或开启，节联的镀膜腔体，两头各有一个装载/卸载室和一个真空过渡室，装载/卸载室后面分别有镀制工件转动架平台，镀制工件转动架平台上放置镀制工件转动架，镀制工件转动架上悬挂有镀制工件，镀制工件转动架通过传动滚轴传送到各个镀膜腔体，依次、连续实施不同需求的连续镀膜后，分别从一端的装载/卸载室取出。优点在于，可长时间连续镀膜，延长了设备维护周期，一次能够镀多个镀件，生产效率提高许多倍。

申请人：纳峰真空镀膜(上海)有限公司

地址：201700 上海市青浦区青浦工业园区华纺路99弄99号2幢1层A区

国籍：CN

代理机构：上海东亚专利商标代理有限公司

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