专利名称：清洁方法专利类型：发明专利
发明人：吴义烈,三森健一,宫泽聪申请号：CN200410101725.6申请日：19970327公开号：CN16360A公开日：20050713
摘要：本发明涉及一种清洁方法，即涉及一种用于清除在制造液晶显示器基片或半导体过程中，粘附在基片等表面上的污物的清洁方法。其中含水还原碱性清洁溶液由碱性溶液与含氢的水混合制成。这种含水清洁溶液具有有效的清洁能力，其氧化还原电位和pH值可以单独控制。因此，根据在每一制造工序过程中，粘附在物体上的污物的形式，利用含水清洁溶液清洗即可清除多种污物。
申请人：阿尔卑斯电气株式会社,奥璐佳瑙股份有限公司
地址：日本国东京都
国籍：JP
代理机构：北京三幸商标专利事务所
代理人：刘激扬
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