课程名称 半导体物理 考试学期
得分
适用专业 电子科学
考试形式
闭卷
考试时间长度 120分钟
一、 填空(每空1分,共27分)
1.纯净半导体Si中掺Ⅲ族元素的杂质,当杂质电离时从Si中夺取 ,在Si晶体的共价键中产生了一个 ,这种杂质称 杂质;相应的半导体称 型半导体。
2.当半导体中载流子浓度存在浓度梯度时,载流子将做 运动;半导体存在电
势差时,载流子将做 运动,其运动速度正比于 ,比例系数称为 。
3.np>n2
i意味着半导体处于 状态,其中n= ;
p 。这时半导体中载流子存在净复合还是净产生? 。 4.半导体中浅能级杂质的主要作用是 ;深能级杂质所起的主要作用 。
5.非平衡载流子通过 而消失, 叫做寿命τ,寿命τ
与 在 中的位置密切相关,当 寿命τ趋向最小。
6.半导体中的载流子主要受到两种散射,它们分别是 和 。前者在 下起主要作用,后者在 下起主要作用。
7.半导体中掺杂浓度很高时,杂质电离能 (增大、减小、不变?),禁带宽度 (增大、减小、不变?)。
8.p-n结电容包括 电容和 电容,在反向偏压下, 电容起主要作用。
二、 简要回答(共40分)
1.什么是直接复合?什么是间接复合?试述它们在半导体器件中的作用。 2 何谓非简并化半导体?何谓简并化半导体?
3.下图分别是半导体材料Si、Ge、GaAs的能带结构示意图。
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(1)请指出图a 、图b、 图c分别对应何种材料,您判断的依据是什么?
(2)在三幅图中,价带对于同一个K,E(K)可以有两个值,表明对应两种有效质量不同的空穴,即重空穴和轻空穴。试指出曲线1、2分别对应哪种空穴,依据是什么?
4.当GaAs样品两端加电压时,样品内部便产生电场E。电子的平均漂移速度vd随电场的变化关系如下图所示,请解释之。
5.若在掺有受主杂质NA的p型衬底上采用扩散工艺又掺入一层浓度为ND施主杂质,且ND>>NA,本征载流子浓度为ni。(1)写出接触电势差VD的表达式;(2)画出平衡时p-n结的能带图,请问p区和n区哪边的势垒宽度宽?(3)说明外加正向偏置时,正向扩散电流的主要成分是电子电流还是空穴电流?(4)若外加正向电压为Vf时,分别写出注入p区和n区的载流子浓度?
三、 计算(共33分)
1.(8分)早期锗硅等半导体材料常利用测其电阻率的办法来估计纯度,若测得室温下电阻率为10cm,试估计N型锗的纯度,并讨论其局限性。(300K较纯锗样品的电子迁移
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率n3900cm2V1s1,锗原子密度d=4.4210cm, 电量e=1.610A.s)。
22-3-19
2.(9分)一个半导体棒,光照前处于热平衡态,光照后处于稳定态的条件,分别由下图
10-3
给出的能带图来描述。设室温(300K)时的本征载流子浓度ni=10cm,试根据已知的数据确定:
(1)热平衡态的电子和空穴浓度n0和p0; (2)稳定态的空穴浓度p; (3)当棒被光照射时,“小注入”条件成立吗?试说明理由。
3.(8分)如图所示,一个很长的掺杂均匀的n型半导体样品,其中心附近长度为2a的
范围内被一稳定光照射,假定光均匀的穿透样品,电子-空穴对的产生率为G。
EppPpDppEPPG ) (少子的连续性方程为txXx2
(1) 写出整个样品在小注入条件下的少数载流子方程表达式
(2)写出边界条件
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