专利名称:一种数控抛光工具专利类型:实用新型专利
发明人:黄金勇,马平,鄢定尧,胡庆,何祥,吕亮,谢磊,高胥华申请号:CN201820067361.1申请日:20180116公开号:CN208019932U公开日:20181030
摘要:本实用新型公开一种数控抛光工具,包括金属盘、非金属套圈、清扫层、过滤网和抛光模层,所述金属盘与数控抛光机构可拆卸地连接,所述非金属套圈可拆卸地安装于所述金属盘周向侧壁上,所述清扫层设置于所述非金属套圈底部,所述抛光模层设置于所述金属盘底部,所述金属盘与所述抛光模层通过液体通道连通,且所述过滤网设置于各所述液体通道上。该数控抛光工具,与现有的对光学元件抛光技术工艺相比,过滤网设置于引流孔上侧,保证杂质颗粒无法进入抛光模层底部,避免了抛光液中的杂质颗粒划伤光学元件表面的可能性。抛光颗粒在抛光液的离心力作用下,与加工碎屑一起被排到金属盘外侧,保证了光学元件表面在抛光工艺过程中的平整程度。
申请人:成都精密光学工程研究中心
地址:610000 四川省成都市高新区科园一路3号
国籍:CN
代理机构:北京集佳知识产权代理有限公司
代理人:罗满
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