存储装置及其制造方法[发明专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：存储装置及其制造方法专利类型：发明专利发明人：伊藤雄一

申请号：CN201910176594.4申请日：20190308公开号：CN110910930A公开日：20200324

摘要：实施方式提供一种高品质的存储装置及其制造方法。第1导电体沿着第1轴延伸。第1积层体沿着第1轴延伸，与第1导电体电连接，且包含沿着第1轴延伸的第1强磁性体。第1绝缘体与第1积层体电连接。第2强磁性体与第1绝缘体电连接。开关元件使第1端与第2强磁性体电连接，响应于施加至第1端与第2端之间的电压而允许或阻断从第1端向第2端的电流，且响应于施加至第2端与第1端之间的电压而允许或阻断从第2端向第1端的电流。第2导电体沿着第2轴延伸，与第1开关元件的第2端电连接。

申请人：东芝存储器株式会社

地址：日本东京

国籍：JP

代理机构：北京律盟知识产权代理有限责任公司

代理人：杨林勳

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