铜互连线的刻蚀后处理方法[发明专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：铜互连线的刻蚀后处理方法专利类型：发明专利

发明人：王冬江,周俊卿,张海洋申请号：CN201110107556.7申请日：20110427公开号：CN102760685A公开日：20121031

摘要：一种铜互连线的刻蚀后处理方法，所述铜互连线用于连通上下互连层，所述下互连层包括第一介质层、位于第一介质层内的第一互连线沟槽、填充在第一互连线沟槽内的铜材质、沉积在第一互连线沟槽上表面及水平互连的第一介质层上的顶部阻挡层，所述上互连层包括形成于顶部阻挡层上的第二介质层、位于第二介质层内的第二互连线沟槽、位于第二互连线沟槽底部的通道，所述通道暴露出所述铜材质，所述后处理方法包括：使用等离子气体处理暴露出来的铜，所述等离子气体为NH。采用本发明的铜互连线的刻蚀后处理方法可以抑制铜互连线金属层中铜离子的流失改善与时间相关介质击穿，并能同时减少第二介质层外表面由于刻蚀引起的缺陷。

申请人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

地址：201203 上海市浦东新区张江路18号

国籍：CN

代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：骆苏华

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