专利名称：离子渗析化学镀金属层方法专利类型：发明专利发明人：董季汉
申请号：CN201110115981.0申请日：20110429公开号：CN102210975A公开日：20111012
摘要：本发明提供一种离子渗析化学镀金属层方法。通过提供离子渗析镀槽，该镀槽包括主盐槽1与反应槽3，主盐槽1与反应槽3之间以阳离子交换膜2分隔开。将含有镀层金属离子的主盐溶解于主盐槽1中，将离子型还原剂溶解于反应槽3中，并在反应槽3中添加镀层金属离子络合剂、pH值缓冲剂等添加剂。将反应槽中溶液加热至工作温度并调整其pH值，将待镀基体经过表面清洁和表面活化的镀前处理后放入反应槽中施镀。
申请人：董季汉
地址：523920 广东省东莞市虎门镇龙眼东三路六巷12号702
国籍：CN
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